Rengöringsprogram

Idén

Vikten av rengöringsprocessen

I tillverkningen är det viktigt att uppnå hög produktionskvalitet, hög flöde, hög produktion och låga lager.

Med den ökande populariteten av internet, kommunikationsteknik och informationsbehandlingsteknik, särskilt för halvledarproduktionsutrustning och hög precision av produktionssystem, är betydelsen av rengöringsprocessen självklart.

Rengöringsprocessen är viktig för att öka värdet för kundernas företag.

2. Hitachis högteknologiska rengöringsprogram

Utsläpp främmande partiklar och föroreningar
Under många år har vårt företag ägnat sig åt tillverkning av halvledarproduktionsutrustning, precisionsanalysinstrument och så vidare.

Analys av främmande partiklar och föroreningar
Det finns många kunder som använder elektronmikroskop tillverkade av vårt företag, olika analysenheter, samt främmande objekt inspektionsanläggningar.

[Borttagning av främmande partiklar]
Vårt företag har levererat rengöringssystem till många kunder, inklusive WET / DRY-rengöringsteknik, miljökontrollteknik.

Utbyggd på denna teknik och erfarenhet, kombinerat med tekniskt samarbete med partners och digital teknik
Hitachi High Tech strävar efter att erbjuda de bästa lösningarna på våra kunders rengöringsproblem.

Skapa värde genom att samarbeta med kunderna i rengöringsprocessen

Det är viktigt att spara teknik och erfarenhet i ditt företag. Men inte alla tekniker behöver vara etablerade inom företaget.

Vi svarar på marknadens krav i snabbast möjliga takt och till konkurrenskraftiga priser.

Att lösa rengöringsproblem tillsammans med våra kunder är vår Hitachis högteknologiska filosofi.

Kundsupportssystem

Dry rengöringsteknik

Kvalitetsvetenskap CleanLogix Technology

Vårt företagsmål är att lösa kundernas rengöringsproblem med DRY-rengöringsteknik med låg miljöbelastning som kärna.

Exempel på rengöring vid montering av CMOS-objektiv

② Motåtgärder

Automatisering (exempel)

CO2 mikropartiklar rengöringsteknik

Kvalitetsvetenskap CleanLogix Technology

Rengöringsprincipen

Rengöringsexempel

Oljebäck

Linser (fingeravtryck, oljebläck)

CMOS-sensor (organiskt material)

Egenskaper

Använd teknik för kontroll av CO2-partikelstorlek för att generera optimala partiklar (0,5-500 μm)

• Spruta CO2-partiklar på det rengörda materialet med hjälpgaser som ren torr luft
• Uppvärmda hjälpgaser förhindrar exponering och mikropartiklar kan uppnå rengöring med låg skada
• Speciell munstyckekonstruktion för hög rengöringskraft och låg CO2-förlust
• Miljövänligare än rengöring med vatten och läkemedel
  (CO2 återvinns från avgaser)

De viktigaste patenten

US7225819B2/US6656017B2/US6802961B2/US7601112B2/US7901540B2/US8021489B2/US5725154A/US7451941B2/US9381574B1/US9352355B1/ US9387511B1/US8197603B2/US6979362B2/TWI577452B

Plasmarengöringsteknik

Kvalitetsvetenskap CleanLogix Technology

Precision ytbehandlingsteknik med plasma utvecklas ständigt.

De viktigaste reaktionerna vid plasmabehandling

Egenskaper

1. Fin rengöring som inte kan uppnås med fuktig rengöring
2. Den egna ICP-tekniken producerar ett stort spektrum av plasma i höga koncentrationer
3. Rika plasmatyper för olika användningsområden

CCP (kapasitivt kopplat plasma)
ICP (Induktivt kopplat plasma)

Användning och effekt av plasmaapparater

• Resistenser av harts som genereras vid bearbetning av små hål från 100 till 20 μmφ kan tas bort
• Kan användas för rengöring före anslutning av substrat med nytt material på 5G, såsom "LCP", "PFA", "PTFE" och före färgbehandling
  och förbättrad limfasthet av substratet efter rengöring före och efter målningsbehandling
• Förkorta tiden för avgasning av vakuumdelar

LCP: Liquid Crystal Polymer
PFA: PerFluoroAlkoxy
PTFE: PolyTetraFluoroEthylene

Enhetsserie

Tillämpningsexempel

Exempel på eliminering av organiska ämnen

Vakuumplasma ABF-material (CF4 + O2-gas)

Vakuumplasma Fingeravtryckssensor Descum (CF4+O2-gas)

Exempel på ytförbättringar

Atmosferiskt tryckplasma (med CDA)